御微半导体国内首款90~28nm掩模图形缺陷检测设备发运头部晶圆厂

职场人导航 7 月 29 日消息，御微半导体今日宣布，全新自研的国内首款可完整覆盖 90nm 至 28nm 制程节点的掩模图形缺陷检测设备 Raptor-600，已正式发运国内头部晶圆厂。

掩模版是芯片光刻环节的核心“母版”，其品质直接影响整片晶圆的生产良率，细微的图形缺陷都可能导致整批晶圆报废。

职场人导航获悉，该设备可分辨精细图形、规避辅助图形干扰，快速检出图形缺损、表面污染物等问题，并适配掩模制造厂、晶圆厂两大场景，满足全流程品质管控需求。

官方表示，在 2025 年初初代机型 Raptor-500 交付落地后，经过一年多现场产线迭代打磨，Raptor-600 完成全方位技术升级，包括：

• 自研高分辨率透反射双光路紫外成像系统，可同步捕捉影响掩模及光刻良率的各类缺陷；
• 搭载纳米级高精度运动平台，保障检测定位微米级稳定精度；
• 配套超大图像并行计算引擎，提升缺陷识别速度与适配性。