俄企业成功开发150纳米电子束直写光刻原型系统

职场人导航 7 月 24 日消息，据俄罗斯媒体 CNews 当地时间 20 日报道，俄罗斯企业泽列诺格勒纳米技术中心已于今年 6 月成功开发出 150nm 电子束直写光刻原型系统，该设备名称似可意译为“Progress ELL 150”。 泽列诺格勒纳米技术中心负责人表示，目前正对两套原型系统开展为期 4 个月的一系列初步测试，随后将继续测试图案化精度及其他技术参数。 电子束光刻是一种不依赖掩模版的光学图案化技术，适合小规模制造，具有灵活便捷的优势，但不利于大规模生产。在传统半导体制造产业链中，电子束光刻通常用于掩模制造环节。 不过，对于俄罗斯航天或国防工业所需芯片而言，其市场规模本就相对较小，直接采用电子束光刻或许也具备商业化可能。